(059090) 미코 - (1) 회사소개

(059090) 미코 - (1) 회사소개

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• 동사는 1999년 7월 16일에 설립되었으며, 2002년 1월 15일자로 코스닥시장에 상장하였음.
• 동사는 종속회사 8개사를 포함하여 주요 사업으로 반도체 및 엘씨디 장비를 구성하는 부품을 제작하는 부품사업부문과 반도체 및 엘씨디 장비를 구성하는 부품의 세정과 코팅을 영위하는 세정사업부문이 있음.
• 동사의 매출은 세정사업 약 73%, 부품사업 약 27%로 구성되어 있음.

 

안녕하십니까? 미코 그룹 회장 전선규 입니다.
미코 그룹은 반도체, 디스플레이 공정 장비용 세라믹 소재, 부품 전문기업인 미코와 반도체 공정 장비용 부품 세정, 코팅 전문기업인 코미코,
콜레스테롤 측정기와 같은 POCT(Point Of Care Testing) 전문기업 미코바이오메드 등으로 구성되어 있습니다.

미코는 고기능성 제품인 Heater, ESC, 하부전극 등의 제품과 일반 세라믹 부품들에 있어 기술, 생산 Capa 확보 등을 통해 글로벌 경쟁력을 확보하여
글로벌 세라믹 소재 전문기업으로 발돋움하고 있습니다.

코미코는 세정, 코팅 사업의 선두주자로서 그 위치를 확고히 유지하고 있으며 글로벌 반도체 경기 활성화에 따른 성장을 기대하고있습니다.

미코바이오메드는 안정적인 글로벌 거래처 확보 등을 통해 글로벌 바이오 헬스케어 전문기업으로의 입지를 다지고 있습니다.

미코는 전 직원들이 ‘즐겁게 / 치열하게 / 깨끗하게 / 빠르게’ 라는 기업 정신을 바탕으로 지금 이 순간에도 고객만족을 위해 불철주야
노력하고 있습니다. 앞으로도 많은 관심과 격려 부탁 드립니다.

 

미코 네트워크

 

미코 (주)코미코

 

미코 (주)미코 바이오메드

 

미코 조직도

미코 사업분야

Heater

AIN Heater

300mm AIN Heater

200mm AIN Heater

Feature (1 Zone)

• 200mm / 300mm wafer
• 열전도도 우수 (170W/m·K)
• 내구성 우수
• 부식 저항성 우수
• 다양한 CVD공정 내 Wafer 온도 균일도 우수

Feature (2 Zone)

• One Zone Heater보다 Wafer온도 균일도 우수
• 300mm Wafer 공정 내 개별 Zone제어하여 온도 균일도 최적화

 

 

      AIN Heater Repair

Schematic for AIN Heater

 

 

반도체 공정용 정전척

• 척(Chuck) 모드 : 쿨롱, 존슨-라벡
• 전극 타입 : 단극형, 양극형
• 적용 분야 : 건식 식각(Oxide, Poly, Metal),
  증착공정, ODF, Flip Chip
• 적용 웨이퍼 크기 : 최대 Φ350㎜
• 히터 발열영역 : 단일 영역, 이중 영역, 다중 영역
• 제어 가능한 온도 범위 : 0 ~ 150℃
  (튜너블 정전척 : 온도 조절 가능한 타입)

 

디스플레이(LCD / OLED) 공정용 정전척

• 전극 타입 : 단극형, 양극형
• 유리 기판 크기 : 최대 10.5세대
• 정전척 크기 : 최대 3500×3300㎜

 

 

 

 

반도체 / MEMS 공정용 샤워헤드

• 가스 분배 채널 : 단일 영역, 이중 영역, 다중 영역
• 절연 소재 아노다이징, 세라믹 플라즈마 코팅 (Al2O3, Y2O3)세라믹 소결체 (SiC, Y2O3, Al2O3)
• 적용분야 : 건식 식각 (Oxide / Poly), 증착공정
• 적용 웨이퍼 크기 : ~ 300㎜(φ)
• 히터 발열영역 : 단일영역, 이중영역, 다중 영역
• 제어 가능한 온도 범위 : 0 ~ 150℃(온도조절 가능한 타입)

 

AlN Ceramic

• 높은 열전도도 특성
• 파티클 발생 감소
• 플라즈마에 대한 낮은 식각률
• 긴 사용 시간

 

• 높은 열전도도 특성
• 큰 사이즈 튜브 (외경 Φ274 x T150, 외경 Φ240 x T300)

 

• 높은 열전도도 특성
• 소형 절연판 사이즈 (Φ32 x T2.5)
• 높은 생산성 ( 6000 개 / 1 Run)

 

Machinable AlN Ceramic

• 우수한 기계 가공성
• 높은 열전도도 특성
• 높은 절연 저항
• 복잡한 형상의 세라믹 가공 (스크류, 핀과 도가니 타입)
• 큰 사이즈 제품 생산 (□305 x T64)

 

Y2O3 Ceramic

• 높은 플라즈마 저항성
• Particle issue 감소에 따른 긴 Life Time
• 저 유전 손실
• 고강도 Yttrium Powder 개발/소재 양산
• 대구경 소재 제작 기술 보유

 

Al2O3 Ceramic

 

Material Characteristics

• 화학적 침식, 유기 용제에 강한 내약품성
• 우수한 기계적 강도 및 내마모성
• 강유전성, 저 유전손실 및 고온 전기 절연성
• 1600℃ 이상 사용 가능한 우수한 내열성
• 다양한 응용이 가능한 범용성

 

연구분야

AIN Ceramic

 

AlN의 일반적인 특성
• 내열성 및 내식성 우수
• 공유결합과 이온결합
• 소결이 비교적 용이 (다른 산화물에 비해 이온결합 특성이 크다)
• 절연성 및 높은 열전도율
• 온도상승에 따른 열전도율 감소가 낮다 (산화물에 비해서)
• 단결정은 무색투명
• 낮은 열팽창계수 (알루미나에 비해)

AlN의 주요 용도
• 반도체용 부품, 고전류용 스위치, 고주파 전력 증폭장치, 비산화 분위기용 내화골재, 금속용융용 도가니, 보호관, 소결용 치구

 

 

 

장점
• 우수한 내 플라즈마성 및 내식성
• 우수한 파티클 저감 성능
• 높은 라이프 타임

응용분야
• Heater Tube
• Shadow-rings to guide wafer
• Cover-plates at in-situ process (>Φ400mm)
• Gas injectors and nozzles
• Lift-pins and screws

 

AlN 세라믹의 공정도

 

AlN 세라믹의 제작 가능한 크기

 

 

AlN 

Features of AlN Ceramic Substrate
• 높은 열전도도 특성 ( AlN : 170W/m·k vs. Al2O3 : 15W/m·k )
• Al2O3 기판과 유사한 기계적 물성
• 큰 사이즈의 기판 제조 가능
• High power LED’s, power device, hybrid modules, etc 등의 제작에 적합한 AlN 기판

 

Al2O3 와 AlN Substrate의 비교

 

AlN Substrate의 제조 공정도

 

SOFC(Solid Oxide Fuel Cell)